| Reinraumtechnik
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| (klimatisierter Reinraum der Klasse 10.000 mit Schleuse, Arbeitsplätze Klasse 100. Anlage für halbleitereines Wasser mit 18MOhm cm, Gelblicht)
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| Bauelementeentwurf
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| (CAD-Entwurf von Schablonen mit CAM 350)
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| Dünnschichttechnologie
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| (2 Vakuum-Aufdampf- und Sputteranlagen, thermisches Verdampfen, Elektronenstrahlverdampfen mit 4 Tiegelanordnung zur in-situ-Erzeugung von Schichtsystemen, RF-Sputtern aus zwei Quellen mir der Möglichkeit zum Reaktivsputtern, DC-Sputteranlage zur Erzeugung von Au-Schichten)
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| Maskierung und Photolithographie
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| (Spincoater zur Photolackbeschichtung, Klimaschränke und UV-Curer zur Photolackhärtung, 2 Justier- und Belichtungseinrichtungen zur Kontakt-/Proximitybelichtung davon eine als Doppelseitenanlage, Verwendung von Positiv- und Negativlacken, Lift-off-Verfahren)
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| Ätztechniken
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| (nasschemisches Ätzen mit isotropen und anisotropen Ätzlösungen an zwei Laboreinrichtungen, Ionenstrahlätzen, Plasmaätzen mit Plasmamonitoring)
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| Aufbau- und Verbindungstechnik
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| (Ultraschallbonden, Klebetechnik)
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| Prozessmesstechnik, Bauelementemesstechnik
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| (optische Mikroskopie, optische und taktile Profilometrie, Vielfachsondentaster zur Bewertung von Bauelementeeigenschaften im Waferverband, elektrische Messtechnik)
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