Dipl. Phys. Norbert Lutz

Wissenschaftlicher Mitarbeiter

Technikgebäude, Zimmer 301
Tel.: 03381 / 355 377
Fax: 03381 / 355 367
E-mail: lutz@fh-brandenburg.de




Werdegang:

Studium der Physik in Bayreuth und Heidelberg. Diplomarbeit am Max-Planck-Institut für Kernphysik in Heidelberg.

Von 1987 bis 1992 wissenschaftlicher Mitarbeiter an zwei BMFT-Projekten am Fraunhofer-Institut für Mikrostrukturtechnik in Berlin in der Abteilung Ätztechnik und Mikrostrukturierung. Im ersten Projekt "Untersuchung der Einsatzmöglichkeiten von Synchrotronstrahlung für photoinduzierte Strukturierungsprozesse" erfolgte die Entwicklung einer patentierten VUV-Beamline für BESSY, vorgestellt in Applied Optics, Vol. 28, No. 15 (89). Im Folgeprojekt "Fortgeschrittene Strukturierungstechniken" wurde eine neuartige Ionenquelle als Plasmaquelle mit HF-angeregtem Molekularstrahl für reaktives Ionenätzen aufgebaut und vermessen, siehe Review of Scientific Instruments, Vol. 62, No. 10 (91).

Seit 1992 angestellt an der FHB, anfangs im technischen Laborbereich, später im wiss. Dienst. 

Zur Zeit beschäftigt mit praktischen Entwicklungsarbeiten und anwendungsorientierten Projekten in den Bereichen Technische Physik, Sensor- und Mikrotechnik. Aktuelle Beispiele:

Veröffentlichungen:

  1. Developing an undispersed VUV beamline for large area surface processing
    J. Janes, N. Lutz
    Applied Optics, Vol 28, No 15 (1989)
  2. rf-excited molecular jet plasma for reactive ion etching
    J. Janes, N. Lutz
    Rev. Sci. Instrum., Vol 62, No. 10 (1991)
  3. Gas / Liquid Microreactors: Hydrodynamics and Mass Transfer
    V. Hessel, W. Ehrfeld, Th. Herweck, V. Haverkamp, H. Löwe, J.Schiewe, Chr. Wille, Th. Kern, N. Lutz
    Conference Proccedings IMRET 4 - 4th International Conference on Microreaction Technology, Atlanta, March 5 - 9, 2000
  4. Dynamic Monitoring of Fluid Equipartion and Heat Release in a Falling Film Microreactor Using Real-Time Thermography
    Chr. Wille, W. Ehrfeld, V. Haverkamp, Th. Herweck, V. Hessel, H. Löwe, N. Lutz, K.-P. Möllmann, F. Pinno
    Beitrag zur MICRO.tec 2000, Hannover, 25. - 27. Septenber 2000